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ＴRAVIT： フォトマスク用ドライエッチシミュレーター
フォトマスク製作に於いて、ＣＤ変動の主因の一つにドライエッチプロセスがあげられます。 ＴＲＡＶＩＴは、従来のドライエッチ工程の条件出し（ＤＯＥ）にシミュレーターを取り入れることにより低コスト、短時間でこれを実現します。 ＴＲＡＶＩＴは、プロセス条件とパターンを指定することによりプロファイル、ＣＤおよびCDエラー、サイドウォール、バイアスの最適化を短時間で可能にします。 シミュレーション例
フォトマスク製作に於いて、ＣＤ変動の主因の一つにドライエッチプロセスがあげられます。 ＴＲＡＶＩＴは、従来のドライエッチ工程の条件出し（ＤＯＥ）にシミュレーターを取り入れることにより低コスト、短時間でこれを実現します。
ＴＲＡＶＩＴは、プロセス条件とパターンを指定することによりプロファイル、ＣＤおよびCDエラー、サイドウォール、バイアスの最適化を短時間で可能にします。
