XeDraw2　 　　 Pattern Generator for SEM and FIB

ナノパターンを自分のラボで手軽に作りたい 描画条件をいろいろと簡単に変えてみたい マスクを製作するほどの量は必要ない 低コスト、最小の設置面積で実現したい こんなケースにピッタリなのが、ジードロー2 です

□ 商用SEM･FIBの描画性能を最大限引き出します
　　　　　　　□インテリジェントな図形発生･描画機能で高速･高精度描画を可能にします
　　　　　　　□ 高い柔軟性で多様なラボ環境に対応します
　　　　　　　□ 高いコスト･パーフォーマンスで ”パーソナル描画“ を実現します

■ 商用SEM･FIBの描画性能を最大限引き出します

XeDraw2 は、数々の先進の描画アルゴリズムで商用SEM,･FIBを高速･高精度描画ツールとして最適化します。　ベクタースキャン方式に加え、偏向器の “眠るY軸” の均等利用、独自開発のSEM･FIB専用CAD･制御ソフウェア - ECP、先進のエレクトロニクス等のシステム構成により、高性能で、かつ、柔軟性の高いラボ用描画ツールを実現します。


■ インテリジェント図形発生･描画機能で高速･高精度描画を可能にします

高速･高精度描画のための多くの基本図形が準備されており、それぞれに最適な描画方式が適用されます。　偏向器Ｘ-Ｙ軸の均等負荷描画方式や、従来、多角形近似で処理されていた曲率図形のハードウェア演算による３次多項式近似などにより高精度描画がより高速に行えます。


■ 高い柔軟性で多様ななラボ環境に対応します

XeDraw2 のCAD･制御ソフトウェア- ECPは、経験豊かなリソグラフィー･ユーザーらによって開発されましたので、多様な描画ニーズに高い柔軟性とユーザー･フレンドリーでお応えします。

データー･フォーマットはECPフォーマットに加え、GDS?、AutoCAD、各種イメージ･フォーマットに対応していますのでラボ･ユーザーのさまざまな図形設計環境に柔軟に対応します。　また、ECP は Windows と Linux に対応しています。

ECPはサイト･ライセンス･ソフトウェアですので、ユーザー･グループの全員がそれぞれのNote PC上でパターンの設計と描画条件の設定を Off-Line で行えます。　実際の描画は、装置に接続されたXeDraw2 と各人のNote PCをUSBで繋ぐだけでスタートできる “パーソナル描画” とでも呼ぶべきシステムです。

さらに、DSPカーネルはUSBを通して各人の Note PC から XeDraw2 内のロジックデバイス(FPGA)に高速にロードされますが、カーネルのアップグレーﾄもPC上でのCut-and-Pasteで簡単に行え、システムを常に最新に保つことができます。


■ 高いコスト･パーフォーマンスで “パーソナル描画” を実現します

XeDraw2 は、先進のエレクトロニクス･デザインを駆使し、SEM･FIB装置の上にも置けるポータブル･サイズですので低消費電力、床面積ゼロで使用できます。

　　 XeDraw2 は、ラボ内ユーザー全員に “あなた専用のパーソナル描画” を実現します。