有限会社 テクノパシフィック
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テクノパシフィックは、電子・イオン光学分野で先進のソルーションを提供しております。
■MEBS 電子・イオン光学設計シミュレーター ■aBeam Technologies 電子ビームと材料の相互作用シミュレーター ■XENOS Semiconductor Technologies SEM/FIB用描画ユニット ■EADAM メンブレン材料の透過電子特性計測・評価 ■Grenon Consulting フォトマスク市場・技術レポート
■MEBS 電子・イオン光学設計シミュレーター
■aBeam Technologies 電子ビームと材料の相互作用シミュレーター
Munro's Electron Beam Software (MEBS Ltd.) UK
電子・イオンビーム描画装置、電子顕微鏡等の荷電ビーム装置の光学設計シミュレーターとして世界中の先端的開発拠点で使われています。
標準パッケージに加え、お客様の個別デザインに合わせたツールの開発もお請けしています。
■製品紹介 ■スライドショー ■資料請求 ■Link to MEBS:http://www.mebs.co.uk/
aBeam Technologies USA
電子ビーム描画、測長、欠陥検査装置等での電子ビームと材料(マスク・ウェハー、感光剤)の相互作用をシミュレートします。 各アプリケーションプロセスでの最適条件出し(DOE)がシミュレーターで短時間に経済効率よく行えます。 お客様仕様のシミュレーターの開発や解析受託もお請けしています。 ■製品紹介 TEMPTATION 熱解析シミュレーター解析シミュレーター CHARIOT 材料からの2次電子、反射電子シミュレーター TRAVIT フォトマスク用ドライエッチシミュレーター BEAMETR ナノメーター ビーム径測定自動測定 ■資料請求 ■Link to aBeam Technologies: http://www.abeamtech.com.
XENOS Semiconductor Technologies, Germany
ラボ用SEM・FIBを使ったナノメーター描画は、MEMS等のナノテクノロジー先端分野でその手軽さと柔軟性で必要不可欠なツールです。 チュービンゲン大学で開発され、XENOS社にて製品化されたXeDraw2は、数々の革新的アルゴリズムを駆使して商用SEM、FIBからその描画性能を最大限引き出します。
■製品紹介 ■資料請求 ■Link to XENOS: http://www.xenos-semi.com
Mask Makers Data Bookは、世界中の150に及ぶマスクショップの設備、サービス、キー・パーソン等の情報を毎年更新して発行しています。
■MMDB2002表紙 ■掲載マスクショップ一覧 (2000年版より) ■資料請求